光刻機又名掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻。簡單地說，光刻機是制造芯片不可缺少的工具，沒有光刻機，就沒有芯片。

　　無論是手機的移動處理器還是電腦的桌面處理器，都是芯片的一種形式?，F代社會的生產制造已經離不開芯片，所以能制造芯片的光刻機的重要性不言而喻。

　　光刻是指在硅表面蓋上高光敏感性光刻粘合劑，用光線(通常是紫外線、深紫外線、極紫外線)通過口罩照射至硅表面，使光線照射的光刻粘合劑反應的方式工作。

　　光刻完成后，在沒有光刻塑料保護的情況下蝕刻硅部分，然后沖洗其余的光刻粘合劑，就可以實現半導體部件構建在硅表面的過程。

　　光刻機的工作原理似乎不太復雜，但實際上需要非常困難和非常強大的光刻技術，掌握世界上強大的光刻技術。

　　在全球45納米以下的光刻機市場占有80%的份額，目前只有全球能夠生產7納米精度光刻機。聽各大手機廠商宣傳說自己的芯片采用的是10nm技術或者是7nm技術說的其實就是用哪一個精度的光刻機。

　　光刻機是時間、技術、財力多方面積累起來的科技產物，國家致力于研發(fā)也需要時間。

　　通過資源整合和技術開發(fā)，現在具備了量產14納米精度光刻機的技術。但是客觀來看，14nm和7nm還差很多。

　　幸運的是，這一差距正在迅速縮小。從突破到量產還需要時間。